常压的硅外延方法有（）。

来源：考试资料网2023-08-22

下面哪些元素属于半径较小的杂质原子？（）

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注入损伤与注入离子的以下哪个参数无关？（）

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CMP的设备构成包括（）。

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掺杂后，退火的目的是（）。

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