问答题
填空题
注入离子的射程主要由()决定。确定注入离子分布的主要参数是()及其()。注入离子分布的一级近似为()。可写成:
免可控硅效应的方法从()寄生管的总增益,以及消除寄生晶体管出发,主要有: 1. (); 2. (); 3. 使用可以吸收注入电荷的(); 4. (); 5. 最可靠的是(),可以消除所有寄生元件的产生。
名词解释
判断题
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