微电子学章节练习(2019.12.12)

来源:考试资料网

问答题

参考答案:原理:临时性地涂覆在硅片表面,通过曝光转移设计图形到光刻胶上。负胶特性:1曝光后不可溶解2显影时未曝光的被溶解3便宜正胶...

名词解释

参考答案:当电子和原子或者分子碰撞时,电子没有脱离核的束缚,而是跃迁到更高的能级叫激发。处于激发状态的电子落回到基态或者最低能级叫...

名词解释

参考答案:是将多个使用相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片,单次制造费用由所有参加MPW的项目按照芯片面积分摊,减小产品开发...

名词解释

参考答案:当金属与半导体的接触电阻小到可忽略不计时,称为欧姆接触。

问答题

参考答案:最主要的是用于亚微米光刻的投影掩膜版衬底材料是熔融石英。不透明材料是一薄层铬。

问答题

参考答案:Liftoff技术是一种有别与干法和湿法刻蚀的介质薄膜,特别是金属薄膜特殊剥离去除技术优点是:样品不必做实际刻蚀,没有损...
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