简要说明正胶和负胶的关光刻原理与特性。

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简要说明正胶和负胶的关光刻原理与特性。

参考答案：原理：临时性地涂覆在硅片表面，通过曝光转移设计图形到光刻胶上。
负胶特性：
1曝光后不可溶解
2显影时未曝光的被溶解
3便宜
正胶特性：
1曝光后可溶解
2显影时曝光的被溶解
3高分辨率

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