- 搜标题
- 搜题干
- 搜选项
半导体芯片制造工半导体制造技术章节练习(2017.10.03)
- 问答题
简述几种典型真空泵的工作原理。
答案：几种典型的真空泵结构：①活塞式机械泵；②旋片式机械泵；③增压器——罗茨泵；④油扩散泵；⑤涡轮分子... - 问答题
杂质原子的扩散方式有哪几种？它们各自发生的条件是什么？从原子扩散的角度举例说明氧化增强扩散和氧化阻滞扩散的机理。
答案：①交换式：两相邻原子由于有足够高的能量，互相交换位置。②空位式：由于有晶格空位，相邻原子能移动过来。③填隙式：在空隙中的... - 问答题
什么是两步扩散工艺，其两步扩散的目的分别是什么？
答案： - 问答题
简述在热氧化过程中杂质再分布的四种可能情况。
答案：如果假设硅中的杂质分布是均匀的，而且氧化气氛中又不含有任何杂质，则再分布有四种可能。①分凝系数m＜l，且在SiO - 问答题
射频放电与直流放电相比有何优点？
答案：直流放电中，电荷在表面的积聚会使电场减小，直到等离子体消失。在射频电场中，因为电场周期性地改变方向，带电粒子不容易到达电... - 问答题
Si-SiO2界面电荷有哪几种？简述其来源及处理办法。
答案：可动离子电荷Qm来源：主要来源于Na+等网络改变者。解决办法：为了降低Na+的玷污，可以在工艺过程... - 问答题
根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
答案：根据曝光方式不同光学光刻机主要分为三种：接触式，接近式，投影式。接触式：接触式光刻机是最简单的光刻机，曝光时，掩模压在涂... - 问答题
什么是离子分布的偏斜度和峭度，和标准高斯分布有什么区别？
答案：非对称性常用偏斜度γ（skewness）表示：γ为负值表明杂质分布在表面一侧的浓度增加，即x＜R... - 问答题
物理气相淀积最基本的两种方法是什么？简述这两种方法制备薄膜的过程。
答案：物理气相淀积：蒸发Evaporation、溅射Sputtering热蒸发法：在真空条件下，加热蒸发源，使原子或分子从蒸发...
