问答题

【简答题】什么是两步扩散工艺，其两步扩散的目的分别是什么？

答案：实际的扩散温度一般为900-1200℃，在这个温度范围内，杂质在硅中的固溶度随温度变化不大，采用恒定表面源...

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【论述题】假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm^-2。

答案：（1）如果这次预淀积进行了总共t分钟，若预淀积温度不变，引入3Qcm^-2

【论述题】以P₂O₅为例，多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。

答案：在多晶硅薄膜中进行杂质扩散的扩散方式与单晶硅中的方式是不同的，因为多晶硅中有晶粒间界存在，所以杂质原子主要沿着晶粒间界进...