首页
题库
网课
在线模考
搜标题
搜题干
搜选项
单项选择题
LPCVD-SiO2,将工艺控制在较高温度,有:ks>>hg,此时淀积速率的特点为:
A、温度的较小变化都会对淀积速率有较大影响;
B、淀积速率受气相质量输运控制;
C、淀积速率受表面化学反应控制;
D、反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大。
点击查看答案&解析
在线练习
你可能感兴趣的试题
单项选择题
天通一号卫星电话的运营是()
A.中国移动
B.中国联通
C.中国电信
D.中国卫通
点击查看答案&解析
单项选择题
海事卫星电话拨打国际及港澳台用户拨号方式为()
A.00+国际码+对方电话号码
B.0086+对方电话号码
C.0086+国际码+对方电话号码
D.00+对方电话号码
点击查看答案&解析