缺陷的种类很多，分类方法也很多。最普遍的分类是根据缺陷的三维尺寸划分，分为点缺陷、线缺陷和面缺陷。
点缺陷仅限于出现在晶格中不连续的个别点上，但在晶格中有较广的分布；
线缺陷是在一维方向上伸展的缺陷，由此可能产生不完善的原子层；
面缺陷是指多晶体中不同取向的晶粒之间存在界面，晶粒界面附近的原子（或离子）排列比较紊乱，导致晶体中存在晶格断层。
三类缺陷中以点缺陷最为普遍。

阴离子和阳离子的配位数分别为6和2。