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ICP-MS分析中，内标校正可用于监测和校正信号的短期漂移，监测和校正信号的长期漂移和校正一般的样品基体影响。
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在ICP-MS分析中，双模检测器采用脉冲计数和模拟计数两种方式，可同时测定同一个样品中的低浓度元素和高浓度元素。
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使用有全数字电子倍增器检测器的ICP-MS不需要进行脉冲模式和模拟模式交叉校准。
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测量一个特定质量的信号所需的驻留时间是影响检出限和精密度的重要参数。
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ICP-MS中的质量分析器一般需置于比5MPa更低压力的真空系统中，以使系统中背景离子减到最少，从而把离子的碰撞效应减到最小。
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在ICP-MS分析中，降低样品在等离子体中的驻/停留时间可降低氧化物产率，降低难熔氧化物的干扰。
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电感耦合等离子体质谱法几乎克服了传统方法的大多数缺点，可以同时对多种重金属元素进行检测。
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对
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ICP是一种高温离子源，能够把引入的样品从分子状态变成离子状态。
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对
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离子聚焦系统的作用是将通过接口区的待测元素离子最大限度地送入质量分离器，同时尽可能去除基体组分及非待测元素离子。
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基体效应主要决定于基体元素与待测元素的相对浓度。
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氧化硅玻璃作为痕量分析使用材料，几乎可耐所有无机酸。
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错
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