曝光后显影时感光的胶层溶解了，没有感光的胶层不溶解留下了，这种胶称为（）胶。

参考答案：正

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填空题

干法刻蚀适用于（）（粗/细）线条。

参考答案：细

判断题

扩散只用于浅结的制备

参考答案：错

判断题

在LPCVD中，由于hG>>kS，即质量转移系数远大于表面反应速率常数，所以，LPCVD系统中，淀积过程主要是质量转移控制

参考答案：错

单项选择题

A. 离子注入
B. 热扩散

单项选择题

二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）
①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数
②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数
③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度
④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度

A.②④
B.①③
C.①④
D.②③

单项选择题

A.干氧
B.湿氧
C.水汽氧化

名词解释

欧姆接触

参考答案：当金属与半导体的接触电阻小到可忽略不计时，称为欧姆接触。

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参考答案：1）优点：分辨率比光学曝光高；无需光刻板；曝光自动化，加工精度高；在真空中进行；可直接观察曝光的质量。2）缺点：设备复杂...

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参考答案：对接触和互连有的基本要求有：1）能形成良好的欧姆接触；2）互连材料具有低的电阻率和良好的稳定性；3）可被精细刻蚀；4）易...

名词解释

外延

参考答案：一种在单晶或多晶衬底上生长一层单晶或多晶薄膜的技术。