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判断题

真空蒸镀,简称蒸镀,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,气化粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。

参考答案:

判断题

溅射产物有原子、原子团等中性粒子、以及二次电子、二次离子等,主要产物是中性粒子。

参考答案:

多项选择题

A.和膜层结合力高
B.沉积速度快
C.可镀材料广泛
D.绕射性好

判断题

耐蚀性评价的目的是检查涂层抵抗环境腐蚀的能力,考察其防护基体的寿命。

参考答案:

多项选择题

A.表面观察法
B.弯曲测试法
C.重量法
D.电化学测试法

多项选择题

A.加速腐蚀试验
B.人工模拟和
C.大气暴露试验
D.使用环境试验

多项选择题

A.负性光刻
B.干法蚀刻
C.湿法蚀刻
D.正性光刻

判断题

光刻技术的原理和印刷的照相制版相似,即在硅基材料上涂覆光刻胶,接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模,对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后,在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形,再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。

参考答案:

多项选择题

A.X射线光刻法
B.光学光刻法
C.离子束光刻法
D.电子束光刻法

判断题

在印刷电路板的应用中,电路板一般为高分子材料,可先在高分子材料表面PVD蒸镀金属层,而后材料电镀金属导线。

参考答案:
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