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简述微电子工艺的特点

参考答案：

①高技术含量：设备先进、技术先进
②高精度：光刻图形的最小线条尺寸在亚微米量级，制备的介质薄膜厚度也在纳米量级，而精度更在上述尺度之上。
③超纯：指工艺材料方面，如衬底材料Si、Ge单晶纯度达11个9。
④超净：环境、操作者、工艺三个方面的超净，VLSI在100级超净室、10级超净台中制作
⑤大批量、低成本： 图形转移技术使之得以实现
⑥高温：多数关键工艺是在高温下实现， 如：热氧化、扩散、退火

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