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薄膜要有良好的附着力，必须具有哪些基本特性？

参考答案：

（1）接口层原子之间须有强的化学键结，最好是有化合物的形成或化学吸附，理吸附是不够的
（2）低的残存应力，这可能导因于镀膜和基材晶格或热膨胀系数的失配，也可能是薄膜本身存有杂质或不良结构
（3）没有容易变形的表结构，如断层结构，具有机械粗糙的表面是可以减低问题的恶化
（4）没有长期变质的问题，镀膜曝露在大气等的外在环境，如果本身没生氧化等化学反应，则镀膜自然失去其功能

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问答题

沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何？

参考答案：

（1）薄膜和基材之间的晶格失配
（2）薄膜和基材之间的热膨胀系数差异
（3）晶界之间的互挤

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问答题

良好的薄膜须具备哪些特性？影响的因素有哪些？

参考答案：通俗的定义为在正常状况下，其应用功能不会失效。想要达到这个目的，一般而言这层薄膜必须具有坚牢的附着力、很低的内应力、针孔...
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何为化学气相蒸镀（CVD）？主要的优缺点有哪些？

参考答案：化学气相蒸镀乃使用一种或多种气体，在一加热的固体基材上发生化学反应，并镀上一层固态薄膜。优点：（1）真空度要求不高，甚至...
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使用CVD法成长钻石薄膜，氢元素和碳元素的浓度有何重要性？

参考答案：CVD生长钻石膜的瓶颈乃在避免碳氢化物形成石墨，因此氢原子应比碳源多很多。碳源浓度决定了钻石膜的生长速率，但碳源太高时氢...
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试说明CVD法生长钻石薄膜之特性？

参考答案：为使CVD的钻石生长顺利，碳源常用已具钻石结构的甲烷。甲烷可视为以氢压出的单原子钻石。所以故煮饭时的煤气含大量悬浮的单原...
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试说明PVD法生长钻石薄膜之特性？

参考答案：PVD沉积钻石时除撞击区的少数原子外，其它的碳原子乃在真空下，而且温度很低，因此常被认为是低压法。由于钻石在低压为介稳定...
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参考答案：近年来膜状的钻石合成技术突飞猛进。钻石膜的厚度，可自奈米至毫米。薄膜常以物理气相沉积的方法生成。厚膜则多以化学气相沉积的...
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参考答案：优点：硬度高、耐磨性高、低热胀率、散热能力良好、防蚀能力加强等等可应用在：声学产品、消费产品、生医产品、光学产品、超级磨...
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参考答案：优点：（1）真空度要求不高，甚至不须真空，如热喷覆。（2）高沉积速率，APCVD可以达到1μm/min。（3）相对...
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电浆辅助VCD系统具有何特色？

参考答案：一般CVD均是在高温的基板下产生沉积反应，如果以电浆激发气体，即所谓的电浆辅助CVD（Plasma enhanced C...
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