①表面准备：清洁和干燥晶圆表面
②涂光刻胶：在晶圆表面均匀涂抹一薄层光刻胶
③软烘培：加热，部分蒸发光刻胶溶剂
④对准和曝光：掩膜版和图形在晶圆上精确对准和光刻胶的曝光，负胶是聚合物
⑤显影：非聚合光刻胶的去除
⑥硬烘培：对溶剂的继续蒸发
⑦显影目捡：检查表面的对准情况和缺陷情况
⑧刻蚀：将晶圆顶层通过光刻胶的开口去除
⑨光刻胶的去除：将晶圆上的光刻胶层去除
⑩最终目检：表面检查以发现刻蚀的不规则和其他问题

①图形转移到光刻胶层
②图形从光刻胶层转移到晶圆层

机理：等离子体由中性原子团、游离基、分子、离子、少量高能电子组成。
优势：可以较低温度下淀积薄膜，常是低温与低压结合