问答题X 纠错
扩散:扩散区一般认为是进行高温工艺及薄膜沉积的区域。
刻:使用黄色莹光管照明使得光刻区与芯片厂中的其他各个区明显不同。
刻蚀:是在硅片上没有光刻胶保护的地方留下永久的图形。
离子注入:采用高电压和磁场来控制并加速离子。
薄膜生长:主要负责生产各个步骤当中的介质层与金属层的沉积。
抛光:为了使硅片表面平坦化,是通过将硅片表面突出的部分减薄到下凹部分的高度实现。
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数/模转换器芯片可用来提供用做电子机械设备的控制模拟驱动信号。
模/数转换器芯片可用来测量模拟驱动信号的输出。