问答题X 纠错
间隙式杂质从一个间隙到另一个间隙的运动是通过原子间的缝隙进行的,这种依靠间隙方式而逐步跳跃前进的扩散称为间隙式扩散(Interstitial diffusion)。
硅中的间隙式杂质:O,Au,Fe,Cu,Ni,Zn,Mg。
替位式杂质从一个晶格格点位置到另一个晶格位置的运动称为替位式扩散(Substitutional Diffusion)。
硅中的替位式杂质:P,B,As,Al,Ga,Sb,Ge。
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扩散,是一种材料通过另一种材料的运动。
扩散的两个必要条件:浓度差,过程所需要的能量。
固态,液态,气态扩散。
属于固态扩散。
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根据下图给出的一氧化工艺的菜单实例,试说明:
(1)该工艺采用的氧化方法
(2)每一步骤的具体作用(或状态)
(3)氮气在整个工艺流程中的作用
(4)工艺过程中加入HCl的主要作用
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