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多项选择题
A.为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学目的而复制受保护的布图设计
B.未经许可,复制受保护的布图设计的全部或任何具有独创性的部分
C.在分析研究受保护的布图设计基础上,创作出具有独创性的布图设计
D.未经许可,为商业进口,销售受保护的布图设计
多项选择题
A.保护期自登记申请日或世界任何地方首次投入商业利用之日起(以较前日为准)计算时,布图设计专利权保护期为10年
B.布图设计自创作完成之日起算时,保护期为15年
C.布图设计自登记证书颁发日起算,保护期为10年
D.布图设计自产品投入商业利用日起,保护期为15年
多项选择题
A.首先把其布图设计在中国投入商业利用的外国人
B.其所属国与中国签有布图设计保护协议的外国人
C.其所属国与中国参加布图设计保护国际条约的外国人
D.首先在中国办理布图设计登记手续的外国人标
多项选择题
A.以半导体材料为基片
B.至少具有一个是有源元件的两个以上元件
C.部分或全部互连线路集成在基片之中或者基片之上
D.以铜为基片
多项选择题
A.指明要求获得的是“发明专利”
B.指明要求获得的是“实用新型专利”
C.指明要求获得的是“发明专利”和“实用新型专利”
D.指明要求获得的是“外观设计专利”
多项选择题
A.在自优先权日起32个月内,进入中国国家阶段声明未写明国际申请号
B.在自优先权日起32个月内,未缴纳申请费、公布印刷费、宽限费用的
C.在自优先权日起32个月内,未提交外文的原始的国际申请说明书和权利要求书中文译文的
D.在自优先权日起32个月内,未提交译文的更正文本的