单项选择题X 纠错

A.液态源
B.固态源
C.气态源

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单项选择题

A.兆声清洗(Meg)-SRD(甩干)-Brush(刷洗)
B.兆声清洗(Meg)-Brush(刷洗)-SRD(甩干)
C.Brush(刷洗)-兆声清洗(Meg)-SRD(甩干)
D.Brush(刷洗)-SRD(甩干)-兆声清洗(Meg)

单项选择题

A.静电扫描
B.机械扫描
C.静电扫描与机械扫描结合

单项选择题

A.黄色标识,有白烟
B.红色标识,臭大蒜味道
C.黑色标识,无色大蒜味

判断题

Metal slab中的金属Ti是为了形成金属硅化物降低接触电阻。

参考答案:

判断题

扩散的低压工艺有多晶、氮化硅和TEOS。

参考答案:

判断题

LPCVD多晶的反应气体是二氯二氢硅。

参考答案:

判断题

氮化硅去除使用的是磷酸药液。

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