单项选择题X 纠错
A、机械的 B、自下而上 C、有机的 D、自上而下
你可能喜欢
单项选择题
A、内部 B、外部 C、集体 D、个人
A、有机的 B、自下而上 C、分散化 D、自上而下
A、如何留住雇员 B、如何吸引高素质人才 C、如何开发现有员工技能 D、如何开发市场需求的产品
A、土地资源 B、货币资源 C、气候资源 D、人力资源
多项选择题
A、计算机软件 B、集成电 C、影像制品 D、出版物
A、利用知识产权保护的时间性和地域性而获得的知识产权 B、所创造的智力劳动成果,应该满足某项知识产权,法律保护客件的全部法定条件 C、依法履行了取得该项知识产权的必要的法定程序 D、在该项智力劳动成功中,不存在受他人知识产权约束的情况和因素
A、产品开发 B、产品设计 C、产品生产 D、产品营销
A、33% B、29% C、40.3% D、39.5
A、创新综合指数高 B、研发投入占GPD比例高 C、对外技术依存度高 D、知识产权占明显优势
A、克服了技术偏见 B、为“首创性”或“开拓性”技术方案 C、产生了意料不到效果的发明创造 D、将公知的产品或方法用于新的技术领域或新的目的
赞题库-搜题找答案
(已有500万+用户使用)
无需下载 立即使用
版权所有©考试资料网(ppkao.com)All Rights Reserved