单项选择题X 纠错
A、不含杂质与缺陷; B、电子密度与空穴密度相等; C、电阻率最高; C、电子密度与本征载流子密度相等。
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单项选择题
A、各处出现的几率相同 B、各处的相位相同 C、各元胞对应点出现的几率相同 D、各元胞对应点的相位相同
A.金刚石型和直接禁带型 B.闪锌矿型和直接禁带型 C.金刚石型和间接禁带型 D.闪锌矿型和间接禁带型
A、质量较大的原子组成的半导体中的空穴 B、价带顶附近曲率较大的等能面上的空穴 C、价带顶附近曲率较小的等能面上的空穴 D、自旋-轨道耦合分裂出来的能带上的空穴
A、Wms=0 B、Wms<0 C、Wms>0 D、阻值较小并且有对称而线性的伏-安特性
A、散射机构; B、复合机构; C、杂质浓度梯度; C、表面复合速度。
A、1/4 B、1/e C、1/e2 D、1/2
A、变大,变大 B、变小,变小 C、变小,变大 D、变大,变小
A.In(Wm=3.8eV) B.Cr(Wm=4.6eV) C.Au(Wm=4.8eV) D.Al(Wm=4.2eV)
A.半导体表面势 B.平带电压 C.平带电容 D.器件的稳定性
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