为了同时满足对表面浓度，杂质数量，结深以及梯度等方面的要求，实际生产中所采用的扩散方法往往是两种方式的结合，也就是将扩散过程分为两步完成，这种结合的扩散工艺称为两步扩散。

氧气中携带一定量的水汽，Si在其中被氧化成SiO₂的过程。

高温下，硅片与高纯水蒸气反应生成SiO₂的过程。

高温下，氧气与硅片反应生成SiO₂的过程。

即间隙式杂质，如Na，K，Pb，Ca，Ba，Al等。

只与一个Si原子联结的氧，是少数。

连接两个Si-O四面体的氧称为桥键氧，是多数。

化学机械抛光。