离子注入机主要由离子源、分析磁体、加速聚焦器、扫描偏转系统、靶室及终端台和真空系统6大部分组成。
1）离子源的目的是把要注入的杂质原子电离成为离子，形成注入离子束，并具有一定动能（速度）的正离子束。
2）磁分析器  就是根据不同离子其运动半径不同的原理，将不同的离子一一分离开来。
3）加速聚焦器：   离子源的吸极最高负压一般不能达到注入离子能量的要求，如果需要
更高的能量就必须再添加高压进行第二次的加速，完成此功能的就是后加速器。
4）扫描偏转系统： 要使整个硅片表面都能均匀地注入离子，需要束流对硅片进行扫描，对靶片进行大面积离子注入，使整个靶片得到均匀的杂质离子分布。
5）靶室及终端台：让离子束流能注入进去   监测注入的离子数量。
6）真空系统：一般用真空泵和闭合的抽气系统来实现。

•建立浓度差
•杂质扩散至合适的结深
•杂质与硅原子成键