填空题X 纠错

自然界存在的水（江水，河水，湖水）称为（）。

参考答案：天然水
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填空题

氧和碳在硅晶体中都呈（）分布。

参考答案：螺旋纹状
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填空题

一般X射线大致具有的性质（），荧光作用，电离作用，穿透能力强，X射线的折射率近似等于1，衍射作用。

参考答案：感光作用
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问答题

解释离子束扩展和空间电荷中和。

参考答案：由于电荷之间的相互排斥，所以一束仅包括正电荷的离子束本身是不稳定的，容易造成离子束的膨胀即离子束的直径在行进过程中不断的...
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问答题

离子源的目的是什么？最常用的离子源是什么？

参考答案：

目的：使待注入的物质以带电粒子束的形式存在
最常用的源：Freeman离子源和Bernas离子源

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问答题

例举离子注入设备的5个主要子系统。

参考答案：（1）离子源：待注入物质必须以带电粒子束或离子束的形式存在。注入离子在离子源中产生（2）引出电极（吸极）和离子分析器：传...
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问答题

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参考答案：离子注入的优点：（1）精确控制杂质含量和分布（2）很好的杂质均匀性（3）对杂质穿透深度有很好的控制（4）产生单一离子束（...
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问答题

例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。

参考答案：硅中固态杂质扩散的三个步骤：（1）预淀积：表面的杂质浓度浓度最高，并随着深度的加大而减小，从而形成梯度。这种梯度使杂质剖...
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问答题

什么是结深？

参考答案：

硅片中p型杂质和n型杂质相遇的深度被称为结深。

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问答题

叙述氮化硅的湿法化学去除工艺。

参考答案：去除氮化硅使用热磷酸进行湿法化学剥离掉的。这种酸槽一般始终维持在160°C左右并对露出的氧化硅具有所希望的高选择...
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问答题

哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。

参考答案：多晶硅等离子刻蚀用的化学气体通常是氯气、溴气或二者混合气体。刻蚀多晶硅的三步工艺：1.预刻蚀，用于去除自然氧化层、硬的掩...
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