查答案就用赞题库小程序 还有拍照搜题 语音搜题 快来试试吧
无需下载 立即使用

你可能喜欢

判断题

在半导体产业界第一种类型的CVD是APCVD。

参考答案:

判断题

外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层,即外延层。

参考答案:

判断题

LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。

参考答案:

判断题

高阻衬底材料上生长低阻外延层的工艺称为正向外延。

参考答案:

判断题

CVD是利用某种物理过程,例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移,即原子或分子由源转移到衬底(硅)表面上,并淀积成薄膜。

参考答案:

判断题

快速热处理是一种小型的快速加热系统,带有辐射热和冷却源,通常一次处理一片硅片。

参考答案:

判断题

用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。

参考答案:

判断题

传统的0.25μm工艺以上的器件隔离方法是硅的局部氧化。

参考答案:

判断题

氧化物有两个生长阶段来描述,分别是线性阶段和抛物线阶段。

参考答案:

判断题

虽然直至今日我们仍普遍采用扩散区一词,但是硅片制造中已不再用杂质扩散来制作pn结,取而代之的是离子注入。

参考答案:
赞题库

赞题库-搜题找答案

(已有500万+用户使用)


  • 历年真题

  • 章节练习

  • 每日一练

  • 高频考题

  • 错题收藏

  • 在线模考

  • 提分密卷

  • 模拟试题

无需下载 立即使用

版权所有©考试资料网(ppkao.com)All Rights Reserved