填空题
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在半导体制造业中,最早的互连金属是(),在硅片制造业中最普通的互连金属是(),即将取代它的金属材料是()。
参考答案:
铝;铝;铜
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填空题
对芯片互连的金属和金属合金来说,它所必备一些要求是()、高黏附性、()、()、可靠性、抗腐蚀性、应力等。
参考答案:
导电率;淀积;平坦化
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填空题
如果淀积的膜在台阶上过度地变薄,就容易导致高的()、()或者在器件中产生不希望的()。
参考答案:
膜应力;电短路;诱生电荷
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填空题
在外延工艺中,如果膜和衬底材料(),例如硅衬底上长硅膜,这样的膜生长称为();反之,膜和衬底材料不一致的情况,例如硅衬底上长氧化铝,则称为()。
参考答案:
相同;同质外延;异质外延
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填空题
缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是()、()、高密度等离子体化学气相淀积和()。
参考答案:
等离子体增强化学气相淀积;低压化学气相淀积;常压化学气相淀积
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填空题
淀积膜的过程有三个不同的阶段。第一步是(),第二步是(),第三步是()。
参考答案:
晶核形成;聚焦成束;汇聚成膜
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填空题
目前常用的CVD系统有()、()和()。
参考答案:
APCVD;LPCVD;PECVD
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填空题
立式炉的工艺腔或炉管是对硅片加热的场所,它由垂直的()、()和()组成。
参考答案:
石英工艺腔;加热器;石英舟
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填空题
硅片上的氧化物主要通过()和()的方法产生,由于硅片表面非常平整,使得产生的氧化物主要为层状结构,所以又称为()。
参考答案:
热生长;淀积;薄膜
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填空题
列出热氧化物在硅片制造的4种用途()、()、场氧化层和()。
参考答案:
掺杂阻挡;表面钝化;金属层间介质
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填空题
选择性氧化常见的有()和(),其英语缩略语分别为LOCOS和()。
参考答案:
局部氧化;浅槽隔离;STI
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