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【论述题】对RTP来说,很难在高温下处理大直径晶圆片而不在晶圆片边缘造成热塑应力引起的滑移。分析滑移产生的原因。如果温度上升速度加快后,滑移现象变得更为严重,这说明晶圆片表面上的辐射分布是怎样的?
答案:
硅片热不均匀的因素三个因素造成硅片的热不均匀问题(硅片边缘温度比中心低):
圆片边缘接收的热辐...
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答案:
RTP工艺是一类单片热处理工艺,其目的是通过缩短热处理时间和温度或只缩短热处理时间来获得最小的工艺热预算(Thermal...
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