填空题X 纠错

集成电路用单晶硅的主要制备方法是（）

参考答案：提拉法和区熔法
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摩尔定律的主要内容是（）。

参考答案：晶体管特征尺寸每三年减小到约70%，30年内有效，也可表示为集成电路的特征尺寸每三年缩小30%；集成度每三年翻二翻，集成...
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填空题

（）和（）是半导体器件的最常用掺杂方法。（）、（）是Si常用的施主杂质；（）是Si常用的受主杂质；（）是GaAs常用的P型掺杂剂；（）是GaAs常用的N型掺杂剂。

参考答案：热扩散；离子注入；P；As；B；Zn；Si
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多层互连对VLSI的意义：1提高集成度；2降低互连延迟3降低成本

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参考答案：原理：临时性地涂覆在硅片表面，通过曝光转移设计图形到光刻胶上。负胶特性：1曝光后不可溶解2显影时未曝光的被溶解3便宜正胶...
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