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问答题

简单解释原子能级和晶体能带之间的联系和区别。

参考答案:在孤立原子中,原子核外面的电子受到这个原子核所带正电荷的作用,按其能量的大小分布在不同的电子轨道上绕核运转。原子中不同轨...

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什么样的研磨液对什么样的应用?有哪些应用?

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简述CMP优点和缺点

参考答案:1.优点1) 能获得全局平坦化。2) 对于各种各样的硅片表面都能平坦化。3) 可对多层材料...

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简述离子注入的应用?

参考答案:沟道区及阱区掺杂这部分注入工艺的能量比较宽,但剂量属中低范围,所以此部分注入工艺基本上使用中束流及高能注入机。(1)阈值...

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简述离子注入机的各部分工作原理?

参考答案:离子注入机主要由离子源、分析磁体、加速聚焦器、扫描偏转系统、靶室及终端台和真空系统6大部分组成。1)离子源的目的是把要注...

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简述离子注入掺杂工艺与扩散掺杂工艺的比较

参考答案:

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简述离子注入原理

参考答案:离子注入是将被掺杂的杂质原子或分子进行离子化,经磁场选择和电场加速到一定的能量,形成一定电流密度的离子束流后被直接打进(...

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简述热扩散所需经历的步骤

参考答案:

•建立浓度差
•杂质扩散至合适的结深
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简述扩散原理及满足条件

参考答案:扩散是物质的一个基本性质,原子、分子和离子都会从高浓度向低浓度处进行扩散运动。扩散运动需满足两个基本条件:•浓...
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