叙述浴法抛光的原理？

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叙述浴法抛光的原理？

参考答案：浴法抛光是指工件和抛光盘都浸在抛光液中，抛光液的深度以设备静止时淹没工件10～15mm为宜。搅拌器是使抛光液处于悬浮状态，不产生沉淀。抛光玻璃时一般使用氧化铁、氧化铝为抛光材料。

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