问答题
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简述侧墙工艺目的。
参考答案:
侧墙用来环绕多晶硅栅侧壁阻挡大剂量的S/D注入以免其接近沟道导致源漏穿通。
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参考答案:
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参考答案:
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名词解释
化学机械平坦化(CMP)
参考答案:
也称为化学机械抛光CMP是通过化学反应和机械研磨相结合的方法对表面起伏的硅片进行平坦化的过程。
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硅化物是在高温下难熔金属(通常是钛Ti、钴Co)与硅反应形成的金属化合物(如TiSi2、CoSi2)。其作用:①降低器件...
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问答题
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参考答案:
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