问答题X 纠错
浅槽隔离是在衬底上通过刻蚀槽、氧化物填充及氧化物平坦化等步骤,制作晶体管有源区之间的隔离区的一种工艺。它取代了LOCOS隔离工艺。 优点:提高电路的集成度,改善电路的抗闩锁性能。
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