①离子反射（能量很小）；
②离子吸附（<10eV），能量转化热能；
③离子注入（>10keV），能量改变结构；
④溅射（0.5keV~5keV），溅射原子能量10~50eV。

优点：非常好的间隙填充能力，成本低、温度低。
缺点：需要导电种子层，控制复杂。

优点：①台阶覆盖能力好；②能沉积金属合金；③能进行原位溅射刻蚀。
缺点：溅射速率低，金属膜含氩。

优点：①成膜速率高（能蒸发5微米厚的铝膜）；②金属膜纯度高。
缺点：①台阶覆盖能力差；②不能沉积金属合金。

优点：吸附可动离子电荷改善器件界面，降低玻璃的软化点温度易于平坦化。
缺点：易吸潮，一般控制P₂O₅的含量在4%以下。