问答题X 纠错

参考答案:

第一阶段:反应速度决定氧化速度,主要因为氧分子、水分子充足,硅原子不足。
第二阶段:扩散速度决定氧化速度,主要因为氧分子、水分子不足,硅原子充足。

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问答题

简述什么是硅热氧化以及氧化的工艺目的、氧化方式及其化学反应式。

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填空题

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问答题

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参考答案:

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缺点是硅片直径比直拉的小。

问答题

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判断题

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判断题

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参考答案:

判断题

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判断题

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判断题

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参考答案:

判断题

通常称在低阻衬底材料上生长高阻外延层的工艺为正向外延,反之称为反向外延。

参考答案:
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