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常用的溅射镀膜方法有直流溅射、射频溅射、磁控溅射,其中磁控溅射的气压最低、靶电流密度最高。
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蒸发镀膜中电阻加热源可分为直接加热源和间接加热源,其中间接加热源是把待蒸发材料放入坩埚中,对坩埚进行间接加热。
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蒸发镀膜中电阻加热源可分为直接加热源和间接加热源,其中直接加热源的加热体和待蒸发材料的载体为同一物体;而间接加热源是把待蒸发材料放入坩埚中进行间接加热。
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