首页
题库
网课
在线模考
搜标题
搜题干
搜选项
半导体芯片制造工半导体制造技术问答题每日一练(2018.11.09)
问答题
写出菲克第一定律和第二定律的表达式,并解释其含义。
答案:
费克第一定律:C杂质浓度;D扩散系数(单位为cm2/s)J材料净流量(单位时间内流过单位面积的原子个数)解释:如果在一个...
点击查看完整答案
问答题
什么是溅射产额,其影响因素有哪些?简述这些因素对溅射产额产生的影响。
答案:
溅射产额:影响因素:离子质量、离子能量、靶原子质量、靶的结晶性只有当入射离子的能量超过一定能量(溅射阈值)时,才能发生溅...
点击查看完整答案
问答题
简述RTP在集成电路制造中的常见应用。
答案:
1)杂质的快速热激活RTP工艺最具吸引力的的热点之一是晶圆片不用达到热平衡状态,意味着电活性的有效掺杂实际上可以超过固溶...
点击查看完整答案
问答题
什么是离子注入的横向效应?同等能量注入时,As和B哪种横向效应更大?为什么?
答案:
横向效应:注入的离子在垂直于入射方向平面内的分布情况。横向效应与注入离子的种类和离子能量有关。B的横向效应更大,因为质量...
点击查看完整答案
问答题
下图为直流等离子放电的I-V曲线,请分别写出a-g各段的名称。可用作半导体制造工艺中离子轰击的是其中哪一段?试解释其工作原理。
答案:
ab段为无光放电区;bc段为汤生放电;c点为放电的着火点,cd段为前期辉光放电;de段为正常辉光放电区ef段为反常辉光放...
点击查看完整答案