集成电路工艺原理判断题每日一练(2018.01.12)

判断题
外延就是在单晶衬底上淀积一层薄的单晶层，即外延层。
答案：正确
判断题
LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃，采用增强的等离子体，增加淀积能量，即低压和低温。
答案：错误
判断题
扩散运动是各向同性的。
答案：错误
判断题
纯净的半导体是一种有用的半导体。
答案：错误
判断题
高阻衬底材料上生长低阻外延层的工艺称为正向外延。
答案：错误