集成电路工艺原理判断题每日一练(2017.08.20)

判断题
CD越小，源漏结的掺杂区越深。
答案：正确
判断题
离子注入是唯一能够精确控制掺杂的手段。
答案：正确
判断题
区熔法是20世纪50年代发展起来的，能生产到目前为止最纯的硅单晶，含氧量非常少。
答案：正确
判断题
反刻是一种传统的平坦化技术，它能够实现全局平坦化。
答案：错误
判断题
化学机械平坦化，简称CMP，它是一种表面全局平坦化技术。
答案：正确