大学试题

集成电路技术章节练习(2020.01.11)

来源：考试资料网

问答题

形成微带线的基本条件是什么？

参考答案：

介质衬底的背面应该完全被低欧姆金属覆盖并接地，使行波的电场主要集中在微带线下面的介质中。

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判断题

当位错线与滑移矢量垂直时，这样的位错称为刃位错，如果位错线与滑移矢量平行，称为螺位错。

参考答案：对
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问答题

MOS管的IDS大小除与源漏电压和栅极电压有关外，还与哪些因素有关？

参考答案：

源漏之间的距离、沟道宽度、开启电压、栅绝缘氧化层的厚度、栅绝缘层的介电常数、载流子的迁移率

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问答题

什么情况下器件的栅极通常要考虑采用蘑菇型即T型栅极？

参考答案：

栅长小于0.3um

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名词解释

平均投影射程Rp

参考答案：

所有入射离子的投影射程的平均值。

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填空题

杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是（）扩散和（）扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。

参考答案：间隙式扩散机制；替代式扩散机制；激活杂质后
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填空题

硅气相外延的硅源有（）、（）、（）、（）等。

参考答案：四氯化硅（SiCl4）；三氯硅烷（SiHCl3）；二氯硅烷（SiH2Cl2）；硅烷（SiH4）
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问答题

MOS管的主要噪声是什么？分别是如何产生的？如何减小？

参考答案：热噪声、闪烁噪声；热噪声是由沟道内载流子的无规则热运动造成，闪烁噪声由沟道处SiO2与Si界面上电子的充放电而引起；增加...
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问答题

晶向指数表示什么？

参考答案：

所有相互平行，方向一致的晶向晶面，指数代表所有相互平行的一组晶面

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填空题

光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。

参考答案：溶解度；温度；甩胶时间；转速
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