集成电路技术章节练习(2020.01.11)

来源：考试资料网

判断题

参考答案：对

问答题

参考答案：MOS工艺中，N管衬底接最低电位，P管衬底接最高电位；但它们的源极却未必与衬底电位相同，于是源衬存在电压差，这个电压差将...

问答题

参考答案：集成电路基本制造工艺包括：外延生长，掩模制造，光刻，刻蚀，掺杂，绝缘层形成，金属层形成等。

名词解释

参考答案： 既不生产也不设计芯片，设计IP内核，授权给半导体公司使用。

问答题

参考答案：意义：集成电路（IC.测试是伴随着集成电路的发展而发展的，它对促进集成电路的进步和应用作出了巨大地贡献。任务：测试的基本...

判断题

参考答案：对

问答题

参考答案：

问答题

参考答案： 栅长、栅宽、栅指数

问答题

参考答案：去掉TTL门的高电平的驱动级，oc门输出端用导线连接起来，接到一个公共的上拉电阻上，实施线与，此时就不会出此案大电流灌入...

判断题

参考答案：对

赞题库-搜题找答案

（已有500万+用户使用）

无需下载立即使用

手机版电脑版