集成电路技术章节练习(2020.01.10)

来源:考试资料网

填空题

参考答案:离子源、磁分析器、加速管、聚焦和扫描系统、靶室

问答题

参考答案:

切片决定了硅片的四个重要参数:晶向、厚度、斜度、翘度和平行度。

问答题

参考答案:

当半导体表面上加一个与表面垂直的电场,在表面附近形成电子势阱,就会积累起大量的电子

问答题

参考答案:

最简单最廉价但其外延层的质量不高

问答题

参考答案:因为大部分注入的离子并不是以替位形式处在晶格点阵位置上,而是处于间隙位置,无电活性,一般不能提供导电性能,所以离子注入后...

问答题

参考答案:

扩散源有气态、液态、固态三种有存在形式。

问答题

参考答案:

包括微带(Micro-strip)和共面波导(CPW,CoplaneWaveGuidE.型的传输线。

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