集成电路技术章节练习(2019.05.09)

来源：考试资料网

判断题

参考答案：对

填空题

参考答案：100；110；111

问答题

参考答案： 1、底膜处理
2、涂胶
3、前烘
4、曝光
5、显影
6、坚膜
7、刻蚀去胶

名词解释

参考答案：间隙式扩散指间隙式杂质从一个间隙位置运动到相邻的间隙位置。

判断题

参考答案：对

问答题

参考答案： 源漏之间的距离、沟道宽度、开启电压、栅绝缘氧化层的厚度、栅绝缘层的介电常数、载流子的迁移率

问答题

参考答案： 它是一种冷壁工艺，只要将衬底控制到一定温度就行了

问答题

参考答案：最外层的价电子不仅受到自身原子核的作用，还要受到相邻原子核的作用，这样每个价电子就不局限于单个原子，可以转移到相邻的原子...

问答题

参考答案：双极工艺为基础的BiCMOS工艺用的多
影响BiCMOS器件性能的主要部分是双极部分。

问答题

参考答案： 载片部分、接触和调整部分、显微镜部分、控制部分