A、硫酸 B、铬酸 C、草酸 D、瓷质氧化法
控制稳态电极过程速度的基元步骤中最慢的那个步骤。
A、析出电位 B、极化度 C、极化值 D、过电位
A.80mm； B.100mm； C.150mm； D.100～150mm。
A、二氧化碳 B、二氧化硫 C、硫化氢 D、氧气
A、第一 B、第二 C、第三 D、第四
A、抛光后的工件表面更光亮 B、抛光溶液使用寿命更长 C、不产生N（黄烟）等有害气体 D、可以抛光形状更复杂的工件
