集成电路技术章节练习(2019.03.02)

来源:考试资料网

问答题

参考答案:减少沟道效应的措施:(1)对大的离子,沿沟道轴向(110)偏离7-10o;(2)用Si,Ge,F,Ar等离子注入使表面预...

问答题

参考答案:

划片、分类、管芯键合、引线压焊、密封、管壳焊接、塑封、测试

问答题

参考答案:

用gm衡量MOS器件的增益

问答题

参考答案:SSI(small-scaleintegration)小规模集成电路;MSI(Middle-scaleintegrati...

名词解释

参考答案:

局部氧化工艺。

问答题

参考答案:

包含了集成电路尺寸大小、各层拓扑定义等有关器件的所有物理信息

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