不定项选择

‏形状记忆合金将朝着大体积方向发展‎

A．错误
B．正确

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单项选择题

2018年9月3日，张某创作完成集成电路布图设计并于当年投入商业利用。2019年6月1日，张某欲申请集成电路布图设计保护，需向有关部门提供（）。

A.构思布图设计时的草稿
B.含有该布图设计的集成电路样品
C.布图设计登记申请表的英文译本
D.所在地省级人民政府授权其申请保护的批准文件

不定项选择

A．正确
B．错误