问答题

3、在半导体微光刻技术中，硅表面涂敷一层均匀光刻胶的最常用的方法是旋转涂胶方法，旋转涂胶大致有4个步骤：。

答案：滴胶、加速旋转、甩掉多余的胶、溶剂挥发

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对于年调节水库，当遇到特枯年份，水库也可能蓄不满。

答案：正确

单项选择题

磷酸戊糖途径 A.
是体内产生CO2的主要来源
B.
可生成NADPH供合成代谢需要
C.
饥饿时葡萄糖经此途径代谢增加
D.
是体内生成糖醛酸的途径
E.
是体内生成ATP的主要途径