[单项选择题]光刻工艺的设备核心是（）。

[单项选择题]厚膜电阻的成分，一是导体颗粒，二是（）。

[多项选择题]互连工艺中AL的制备可选用（）。

[单项选择题]目前制备SOI材料的主流技术有几种？（）