单项选择题X 纠错
A. 激活杂质后 B. 一种物质在另一种物质中的运动 C. 预淀积 D. 高温多步退火
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单项选择题
A. 有选择地形成被刻蚀图形的侧壁形状 B. 在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形 C. 变成刻蚀介质以形成一个凹槽 D. 在大于3微米的情况下,混合发生化学作用与物理作用
A.增大光源波长; B.减小光源波长; C.减小光学系统数值孔径; D.增大光学系统数值孔径。
A. 诱生电荷 B. 鸟嘴效应 C. 陷阱电荷 D. 可移动电荷
多项选择题
A.高电阻率; B.高化学稳定性; C.低介电常数; D.高介电强度。
A.35; B.100; C.102; D.237。
判断题
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