首页
题库
网课
在线模考
桌面端
登录
搜标题
搜题干
搜选项
0
/ 200字
搜索
问答题
【简答题】在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?
答案:
一、将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中
二、在后续工艺中,保护下面的材料
点击查看答案
手机看题
你可能感兴趣的试题
问答题
【简答题】例出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解释。
答案:
第一步:气相成底膜处理,其目的是增强硅片和光刻胶之间的粘附性。
第二步:旋转涂胶,将硅片被固定在载片台上,一定数...
点击查看答案
手机看题
问答题
【简答题】解释什么是暗场掩模板?
答案:
暗场掩膜版是指一个掩膜版,它的石英版上大部分被铬覆盖,并且不透光。
点击查看答案
手机看题
微信扫码免费搜题