问答题

【简答题】试说明什么是LOCOS和它的主要作用以及该工艺的主要步骤，并说明该工艺存在的主要问题和解决方法。

答案： LOCOS即硅的局部氧化隔离技术，是亚微米以前的硅IC制造的标准隔离技术。它是采用选择氧化方法来制备厚的场氧化层，且工艺...

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【简答题】试描述标准埋层双极晶体管工艺的主要流程并说明光刻掩膜版的作用。

答案：衬底准备（P型）——氧化——光刻n+埋层区——n...