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【简答题】解释APCVD,使用APCVD SiO
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的主要问题是什么,是用硅烷作为反应源吗?
答案:
常压化学气相淀积;传统上这些膜通常作为层间介质(ILD),保护覆盖物或者表面平坦化;不是使用硅烷作为反应源。
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答案:
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