问答题

【简答题】磁控溅射具有的两大特点和需要优化的主要实验参数有哪些？

答案：磁控溅射具有沉积温度低、沉积速率高两大特点。在溅射镀膜过程中，可以调节并需要优化的实验参数有电源功率、工作气体流里和压强...

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【简答题】溅射原子的能童分布一般呈何分布，溅射原子的能量和速度具有哪些特点？

答案：溅射原子的能童分布一般呈麦克斯韦分布，溅射原子的能量和速度具有以下特点：
（1）原子序数大的溅射原子溅射逸出时...

【简答题】简述溅射率的影响因素。

答案：（1）溅射率和入射离子的种类、能童、角度以及靶材的种类、结构等有关。溅射率依赖于人射离子的质量，质量越大，溅射率越高。<...